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專注元素分析技術(shù)研發(fā)應(yīng)用20多年 專業(yè)提供實(shí)驗(yàn)室籌建方案


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麒麟科技爐前分析儀器

QL-5800E型全譜直讀光譜儀

產(chǎn)品分類: 化學(xué)成分分析儀器
    QL-5800E型全譜直讀光譜儀采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的低檢出限,整機(jī)設(shè)計(jì)合理,操作簡單易學(xué),具有數(shù)據(jù)達(dá)標(biāo),穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
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       QL-5800E型全譜直讀光譜儀


        QL-5800E型全譜直讀光譜儀采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的低檢出限,整機(jī)設(shè)計(jì)合理,操作簡單易學(xué),具有數(shù)據(jù)達(dá)標(biāo),穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。


      5800E新.jpg

       QL-5800E型全譜直讀光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域

      冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

      可檢測基體:

      鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

      技術(shù)參數(shù):

      光學(xué)系統(tǒng):帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

      波長范圍:140~680nm

      光柵焦距:401mm

      探 測 器:高性能CMOS陣列/CCD陣列

      光源類型:數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS)

      放電頻率:100-1000Hz

      放電電流:大500A

      工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W

      儀器尺寸:780*565*360mm

      儀器重量:78kg

      檢測時(shí)間:依據(jù)樣品類型而定,一般20S左右

      電極類型:鎢材噴射電極

      分析間隙:4mm

      其他功能:真空,溫度,軟件自動(dòng)控制;壓力,通訊監(jiān)測



       QL-5800E型全譜直讀光譜儀主要特點(diǎn)


      v  高性能光學(xué)系統(tǒng)

      采用CMOS元件可測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測定結(jié)果,重復(fù)性及長期穩(wěn)定性好。

      v  自動(dòng)光路校準(zhǔn)

      自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描及接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;

      儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定。

      v  插拔式透鏡設(shè)計(jì)

      真空光學(xué)系統(tǒng)采用入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作,光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護(hù)方便快捷。

      v  真空防返油技術(shù)

      多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空完全隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進(jìn)入真空室,保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

      v  開放式激發(fā)臺(tái)

      開放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì),以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材分析可達(dá)到3mm。

      v  噴射電極技術(shù)

      采用噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸,提高激發(fā);配上氬氣氣路設(shè)計(jì),大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。

      v  集成氣路模塊

      氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì),替代電磁閥和流量計(jì),電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

      v  數(shù)字化激發(fā)光源

      數(shù)字激發(fā)光源,采用離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

      v  高速數(shù)據(jù)采集

      儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨(dú)高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。

      v  以太數(shù)據(jù)傳輸

      計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)完全外置,方便升級(jí)和更換;可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

      v  預(yù)制工作曲線

      備有不同材質(zhì)和牌號(hào)的標(biāo)樣庫,儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線,方便安裝調(diào)試和及時(shí)投入生產(chǎn);根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇測試條件。

      v  分析速度快

      分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測量時(shí)間,使儀器用短時(shí)間達(dá)到理想的分析效果。

      v  多基體分析

      光路設(shè)計(jì)采用羅蘭圓結(jié)構(gòu),檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設(shè)施,即可實(shí)現(xiàn)多基體分析;便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。

      v  軟件中英文系統(tǒng)

      儀器軟件操作簡單,完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。

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